特許
J-GLOBAL ID：201403086718197128
電子ビーム露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-034950
公開番号（公開出願番号）：特開2014-165334
出願日： 2013年02月25日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：
【課題】可変成形電子ビーム露光方式には、矩形成形ビーム照射面積に比例して、電子ビーム中の電子間に働くクーロン反発に起因するビーム軌道の広がりとフォーカスずれが生じ、結果的にビーム集束位置のずれ即ちパターンサイズのズレを生ずるという根本的な誤差発生要因が存在する。【解決手段】内部矩形データの外縁部を取り囲むように、同一幅:Wを有する縁取り矩形:64とほぼ同等のビーム面積となる中間接続矩形データ:63を配置することにより、パターン外縁近傍に位置する中間接続矩形および縁取り矩形パターンサイズの設計寸法からの乖離、ひいてはパターン側面の微小凹凸の発生を抑制する事が出来る。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
電子線を用い設計レイアウトデータに基づいて露光パターンを描画する描画装置の描画パターンのデータ生成方法において、
設計レイアウトデータ中の任意角の辺または任意の曲線を含む任意角含有領域61を抽出する任意角含有領域抽出ステップと、
前記任意角含有領域61に対して、一又は複数の前記任意角含有領域61の外縁に内接する内部矩形62を抽出しその描画パターンデータを生成する内部矩形データ作成ステップと、
前記一又は複数の前記任意角含有領域61の外縁に内接する内部矩形62の外縁に内接する微小幅:Wの中間接続矩形63を抽出して除き、前記内接する内部矩形62を縮小した内部矩形65および中間接続矩形63の描画パターンデータを生成する中間接続矩形データ作成ステップと、
前記任意角含有領域61から前記一又は複数の前記任意角含有領域61の外縁に内接する矩形62を除いた領域に対して、当該領域の外縁に内接しかつ前記一又は複数の前記任意角含有領域61の外縁に内接する内部矩形62に外接する一定幅:Wの微小矩形64(縁取り矩形64)を抽出しその描画パターンデータを生成する縁取り矩形データ作成ステップと、
前記縮小した内部矩形65および中間接続矩形63の描画パターンデータと縁取り矩形64の描画パターンデータを用いて前記任意角含有領域61の露光パターンを描画するステップと、
を有することを特徴とする描画パターンのデータ作成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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