特許
J-GLOBAL ID：201403095182159545

有機半導体膜の製造方法、その製造装置および有機半導体基板

発明者：
村田 和広

村田 和広 について

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竹谷 純一

竹谷 純一 について

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岡本 敏宏

岡本 敏宏 について


出願人/特許権者：
株式会社SIJテクノロジ

株式会社SIJテクノロジ について

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国立大学法人大阪大学

国立大学法人大阪大学 について


代理人 (2件)： 飯田 敏三 ,  宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-013701
公開番号（公開出願番号）：特開2014-146665
出願日： 2013年01月28日
公開日（公表日）： 2014年08月14日
要約：
【課題】有機半導体膜が付与される基材の形状や構造に対して自由度があり、サブマイクロメートルといった微細なパターン形成も可能となる有機半導体膜の製造方法を提供する。【解決手段】有機半導体化合物を含む液滴を特定のノズルから基材面に向け吐出し、液滴を基材面に着弾させて形成する有機半導体膜の製造方法であって、液滴の吐出を、ノズルを基材面に沿って相対移動させながら行う有機半導体膜の製造方法、当該製造方法により製造した有機半導体基板、当該製造方法に適用する製造装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機半導体化合物を含む液体の液滴を特定のノズルから基材面に向け吐出し、前記液滴を前記基材面に着弾させて形成する有機半導体膜の製造方法であって、前記液滴の吐出を、前記ノズルを前記基材面に沿って相対移動させながら行う有機半導体膜の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 21/368 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/40 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (5件)：
H01L21/368 L ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 310J ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A
Fターム (24件)：
5F053AA50 ,  5F053BB60 ,  5F053DD19 ,  5F053FF01 ,  5F053HH01 ,  5F053HH02 ,  5F053LL10 ,  5F053RR05 ,  5F053RR20 ,  5F110AA16 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE08 ,  5F110FF02 ,  5F110FF09 ,  5F110FF36 ,  5F110GG05 ,  5F110GG24 ,  5F110GG25 ,  5F110GG29 ,  5F110GG42 ,  5F110GG58
引用特許：
審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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