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J-GLOBAL ID：201502201502523517   整理番号：15A0795975

nsパルスレーザを用いた薄膜シリコン太陽電池溝加工におけるレーザ空間強度分布の影響

著者 (4件)： 飯田亮一 (東京工大 大学院) ,  KIM Byunggi (東京工大 大学院) ,  DOAN Hong Duc (東京工大 大学院) ,  伏信一慶 (東京工大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 52nd  ページ： ROMBUNNO.I322  発行年： 2015年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノ秒パルスYAGレーザの空間強度分布を液体光学素子により様々に変化させ,薄膜シリコン太陽電池ガラス基板上の透明電極層の選択的除去加工への影響を調査する。加工にはレーザをガラス層側から照射するバックスクライビング法を用いた。まずシングルパルスの照射によりビームの空間強度分布が加工品質に与える影響を実験的に解明した。次にここから得られた知見を用いて溝加工を行った。溝幅,導電性の測定,加工部の観察などから,溝加工における最適な加工パラメータを検討する。(著者抄録)

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *透明電極 ,  *溝加工 ,  *パルスレーザ ,  分布 ,  光学素子 ,  Gaussビーム ,  光子ビーム ,  基板 ,  幅 ,  電気絶縁 ,  焦点深度 ,  酸化膜 ,  レーザ加工 ,  直径 ,  Besselビーム ,  ガラス基板 ,  スポット径 ,  レーザースクライビング ,  *強度分布 ,  *薄膜シリコン太陽電池 ,  ビーム ,  化成皮膜

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ ,  薄膜シリコン太陽電池 ,  溝加工 ,  レーザ ,  強度分布