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J-GLOBAL ID：201502204076000950   整理番号：15A0637681

スパッタ法による新規強誘電体薄膜YbFe₂O₄薄膜の作製

著者 (5件)： 沼田知也 (岡山大 工) ,  中西真 (岡山大 工) ,  狩野旬 (岡山大 工) ,  藤井達生 (岡山大 工) ,  池田直 (岡山大 理)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.1P036  発行年： 2015年03月06日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,  *誘電体薄膜 ,  強誘電体 ,  *鉄酸塩 ,  *イッテルビウム化合物 ,  ターゲット ,  モル比 ,  流量 ,  酸素 ,  化学組成 ,  金属イオン ,  マグネトロンスパッタリング ,  基板温度 ,  カソード ,  膜厚 ,  優先配向 ,  結晶方位 ,  出力

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタ法 ,  強誘電体薄膜 ,  薄膜 ,  作製