機械的剥離法を用いたHfS<sub>2</sub>原子薄膜の作製と基礎物性の評価

石川篤; 石川篤; 金澤徹; 雨宮智宏; 雨宮智宏; 鶴田健二; 田中拓男; 田中拓男; 宮本恭幸

文献

J-GLOBAL ID：201502205824857814 整理番号：15A0505805

機械的剥離法を用いたHfS₂原子薄膜の作製と基礎物性の評価

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資料名：
巻： 62nd ページ： ROMBUNNO.11A-P6-27 発行年： 2015年02月26日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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半導体薄膜

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機械的剥離法を用いたHfS2原子薄膜の作製と基礎物性の評価

機械的剥離法を用いたHfS₂原子薄膜の作製と基礎物性の評価