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J-GLOBAL ID：201502208101973859   整理番号：15A1047115

プラズマ支援ミスト化学気相堆積におけるミストが製膜形状に与える影響

著者 (3件)： 竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  内田儀一郎 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (阪大 接合研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.15P-PB2-32  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,  ミスト ,  微粒子 ,  *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  *半導体薄膜 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  表面形態 ,  ミストCVD ,  構造
準シソーラス用語： ミストCVD法

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマ ,  支援 ,  ミスト ,  化学気相堆積 ,  製膜