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J-GLOBAL ID：201502223497351071   整理番号：15A0067156

イオン液体を用いた並列型マイクロイオン源による反応性イオンエッチングの検討

著者 (5件)： 吉田凌 (東北大) ,  原基揚 (東北大) ,  大口裕之 (東北大) ,  鈴木達也 (東北大) ,  桑野博喜 (東北大)
資料名： 日本機械学会東北支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 49th  ページ： ROMBUNNO.105  発行年： 2014年03月14日 
JST資料番号： L0012B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオン液体を用いた並列型マイクロイオン源による反応性イオンエッチングについて検討したので報告する。本研究で用いたイオン源は,マイクロニードルアレイとイオン液体を保持するリザーバから構成されている。イオン源として,イオン液体である1-ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate([EMIM]-[BF4])を使用した。作製したイオン源を用いてSi(100)の加工を行い,質量分析装置を用いて生成物のその場観察を行った。その結果,SiF⁺,SiF₂⁺,SiF₃⁺の検出が確認された。この結果より,放出したイオン中に含まれるフッ素がSiと反応し,化学的なエッチングが行われたことが確認された。(著者抄録)

シソーラス用語： *イオン液体 ,  *RIE【エッチング】 ,  イオン源 ,  MEMS ,  イオン放出 ,  *集束イオンビーム ,  マイクロイオンビーム

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： イオン液体 ,  マイクロ ,  イオン源 ,  反応性イオンエッチング