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J-GLOBAL ID：201502244307588043   整理番号：15A0506274

SrRu_0.5Cr_0.5O₃エピタキシャル薄膜の作製及び物性評価

著者 (9件)： 山田佳補 (東大 理) ,  近松彰 (東大 理) ,  近松彰 (JST-CREST) ,  重松圭 (東大 理) ,  福村知昭 (東大 理) ,  福村知昭 (JST-CREST) ,  長谷川哲也 (東大 理) ,  長谷川哲也 (JST-CREST) ,  長谷川哲也 (KAST)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 62nd  ページ： ROMBUNNO.11P-D10-13  発行年： 2015年02月26日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 薄膜 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  ルテニウム化合物 ,  酸化物 ,  クロム化合物 ,  *ストロンチウム化合物 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  X線回折 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  格子定数 ,  空格子点 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜成長 ,  エピタキシャル膜 ,  酸素空格子点
準シソーラス用語： 酸素空孔

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： エピタキシャル ,  薄膜 ,  作製 ,  物性評価