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J-GLOBAL ID：201502245506415375   整理番号：15A0697039

スピンコート法によるエピタキシャルYbFe₂O₄薄膜の作製

著者 (6件)： 岡田高彰 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  岡村直耶 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  中西真 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  狩野旬 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  池田直 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  藤井達生 (岡山大 大学院自然科学研究科)
資料名： 粉体粉末冶金協会講演概要集  (粉体粉末冶金協会大会講演概要集)
巻： 2015  号： 春季  ページ： 173  発行年： 2015年05月26日 
JST資料番号： F0815B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *薄膜成長 ,  薄膜 ,  *鉄酸塩 ,  イッテルビウム化合物 ,  スピンコーティング ,  光吸収 ,  不純物 ,  結晶度 ,  焼成 ,  X線回折分析 ,  磁化率 ,  温度依存性 ,  薄膜太陽電池 ,  エピタキシャル膜 ,  焼成温度 ,  酸素分圧 ,  焼結時間
準シソーラス用語： 焼成時間

分類 (1件)： 電池一般  (YB04010O)

タイトルに関連する用語 (4件)： スピンコート ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  作製