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J-GLOBAL ID：201502269808963262   整理番号：15A0637702

(100)配向エピタキシャルFe_2-xTi_xO₃薄膜の作製

著者 (6件)： 福富大地 (岡山大) ,  松本龍樹 (岡山大) ,  橋本英樹 (岡山大) ,  中西真 (岡山大) ,  狩野旬 (岡山大) ,  藤井達生 (岡山大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.1P057  発行年： 2015年03月06日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 結晶方位 ,  優先配向 ,  エピタクシー ,  *フェライト ,  *鉄酸塩 ,  *チタン化合物 ,  *磁性薄膜 ,  スパッタ蒸着 ,  ターゲット ,  固溶体 ,  化学組成 ,  基板 ,  αアルミナ ,  磁化 ,  結晶構造 ,  規則化 ,  磁化特性測定

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 配向 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  作製