放射性ハロゲン標識化合物の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：野村健一 , 間山世津子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-188989
公開番号（公開出願番号）：特開2015-054840
出願日： 2013年09月12日
公開日（公表日）： 2015年03月23日
要約：

【課題】放射性ハロゲン標識化合物を効率的に製造できる手段を提供する。【解決手段】式:Sub-X(式中、Subは基質を表し、Xは放射性ハロゲン原子を表す。)で表される放射性ハロゲン標識化合物の製造方法であって、(1)相間移動触媒の存在する条件で、基質を含む高分子化合物を、放射性ハロゲン化物イオンと反応させる工程、(2)高分子化合物から遊離する式:Sub-OH(式中、Subは基質を表す。)で表される副生物を、イソシアナート基を有する化合物と結合させる工程、(3)イソシアナート基を有する化合物と結合した副生物を除去する工程、及び(4)高分子化合物と放射性ハロゲン化物イオンとの反応生成物から放射性ハロゲン標識化合物を得る工程を含むことを特徴とする放射性ハロゲン標識化合物の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式:Sub-X(式中、Subは基質を表し、Xは放射性ハロゲン原子を表す。)で表される放射性ハロゲン標識化合物の製造方法であって、(1)相間移動触媒の存在する条件で、基質を含む高分子化合物を、放射性ハロゲン化物イオンと反応させる工程、(2)高分子化合物から遊離する式:Sub-OH(式中、Subは基質を表す。)で表される副生物を、イソシアナート基を有する化合物と結合させる工程、(3)イソシアナート基を有する化合物と結合した副生物を除去する工程、及び(4)高分子化合物と放射性ハロゲン化物イオンとの反応生成物から放射性ハロゲン標識化合物を得る工程を含むことを特徴とする放射性ハロゲン標識化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C07B 59/00 , A61K 51/00

FI (2件)：

C07B59/00 , A61K49/02 A

Fターム (14件)：

4C085HH03 , 4C085KA29 , 4C085KB20 , 4C085KB38 , 4C085KB39 , 4C085KB56 , 4C085KB65 , 4H006AA02 , 4H006AC30 , 4H006AC84 , 4H006BA65 , 4H006BE61 , 4H039CA51 , 4H039CD40

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