特許
J-GLOBAL ID:201503074799231626

光素子の製造方法及び光素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 岡田 宏之 ,  大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-124662
公開番号(公開出願番号):特開2015-084081
出願日: 2014年06月17日
公開日(公表日): 2015年04月30日
要約:
【課題】工程を単純化し、かつ、寸法のばらつきを抑えたSi光導波路製の光素子の製造方法、及びこの製造方法により製造される光素子を提供する。【解決手段】コア16とクラッド14とを備え、光が入出力される光入出力部22を備える光導波路18を有する光素子を製造するに当たり、構成元素がダイヤモンド構造をなし、薄膜表面が(111)面でも、その等価面でもない一様な厚みの単結晶薄膜を備える基板8を準備し、単結晶薄膜に光入出力部の前駆体を備える前駆構造体を形成し、この前駆体を露出させ、それ以外の部分を被覆するマスクを形成し、この構造体をアルカリ溶液に浸漬して、(111)面28b及び28cをエッチングストップ面とするウエットエッチングを行う。【選択図】図4
請求項(抜粋):
コアと該コアの周囲に設けられたクラッドとを有し、光が入出力される光入出力部を備える光導波路を有する光素子を製造するに当たり、 構成元素がダイヤモンド構造をなし、薄膜表面が(111)面でも、その等価面でもない一様な厚みの単結晶薄膜を主面側に備える基板を準備する工程と、 前記単結晶薄膜に対して、面方位に関する異方性を有するエッチングを行い、前記単結晶薄膜をステップ状又はテーパ状にして、前記(111)面及びその等価面を露出させる工程と を備えることを特徴とする光素子の製造方法。
IPC (3件):
G02B 6/13 ,  G02B 6/14 ,  G02B 6/122
FI (3件):
G02B6/12 M ,  G02B6/14 ,  G02B6/12 A
Fターム (23件):
2H147AB21 ,  2H147AB24 ,  2H147BA11 ,  2H147BB02 ,  2H147BB03 ,  2H147BB04 ,  2H147BB06 ,  2H147BD16 ,  2H147BG04 ,  2H147BG19 ,  2H147EA13A ,  2H147EA13C ,  2H147EA14B ,  2H147EA16B ,  2H147EA19B ,  2H147FA03 ,  2H147FA06 ,  2H147FA09 ,  2H147FA21 ,  2H147FC02 ,  2H147FC05 ,  2H147FC08 ,  2H147GA19
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
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