文献

J-GLOBAL ID：201602202014305792   整理番号：16A0361790

Siプラットフォームにおける薄膜光集積技術

著者 (8件)： 雨宮智宏 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  平谷拓生 (東京工大) ,  井上大輔 (東京工大) ,  冨安高弘 (東京工大) ,  福田快 (東京工大) ,  西山伸彦 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  荒井滋久 (東京工大)
資料名： 電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  (電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集(CD-ROM))
巻： 2016  号： 総合大会  ページ： ROMBUNNO.C-4-6  発行年： 2016年03月01日 
JST資料番号： G0508B  ISSN： 1349-144X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜集積回路 ,  *光集積回路 ,  スケーリング【計数】 ,  超LSI ,  *化合物半導体 ,  第13族元素化合物 ,  混成集積回路 ,  III-VI半導体
準シソーラス用語： III-VI化合物半導体 ,  ハイブリッド集積回路

分類 (2件)： 混成集積回路  (NC03163K) ,  光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  プラットフォーム ,  薄膜 ,  光集積