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J-GLOBAL ID：201602205530424985   整理番号：16A0287010

自己組織配列シリカ微粒子モールドによる熱インプリント法

著者 (4件)： 田村健太郎 (東京工大) ,  青野祐子 (東京工大) ,  平田敦 (東京工大) ,  戸倉和 (東京工大)
資料名： 日本機械学会機械材料・材料加工技術講演会論文集(CD-ROM)  (日本機械学会機械材料・材料加工技術講演会講演論文集(CD-ROM))
巻： 23rd  ページ： ROMBUNNO.527  発行年： 2015年 
JST資料番号： L1936B  ISSN： 2424-287X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリカ微粒子の自己組織配列をナノインプリントのモールドとして利用することを目的に,そのPMMA樹脂への転写方法について検討した。その結果,直径6μmおよび500nmのシリカ微粒子で,熱転写による良好なテクスチャの形成に成功した。単層の自己組織配列を得るにはシリカ微粒子懸濁液の濃度を適切に調製する必要があり,直径6μmでは8g/Lで広い範囲で配列が得られた。また,転写の熱および荷重条件が,転写後の形状に大きく影響することが明らかとなった。(著者抄録)

シソーラス用語： 押付成形 ,  型 ,  *ナノ粒子 ,  自己集合 ,  配列 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *転写 ,  懸濁液 ,  テキスチャード加工 ,  *基板 ,  *シリカナノ粒子 ,  *熱転写 ,  *高分子基板
準シソーラス用語： ナノインプリント ,  *樹脂基板 ,  熱インプリント

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自己組織 ,  シリカ微粒子 ,  モールド ,  熱インプリント