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J-GLOBAL ID：201602211597986945   整理番号：16A0283796

κ-Al₂O₃型Me_xFe_2-xO₃エピタキシャル薄膜の構造と強誘電性(I)

著者 (10件)： 浜嵜容丞 (東京工大 応用セラミックス研) ,  安井伸太郎 (東京工大 応用セラミックス研) ,  谷山智康 (東京工大 応用セラミックス研) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  小西綾子 (JFCC) ,  森分博紀 (JFCC) ,  白石貴久 (東北大 金属材料研) ,  赤間章裕 (東北大 金属材料研) ,  木口賢紀 (東北大 金属材料研) ,  伊藤満 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.21P-W641-10  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化アルミニウム ,  *酸化鉄 ,  薄膜 ,  *強誘電体 ,  *ヒステリシス ,  *パルスレーザ蒸着 ,  エピタキシャル膜 ,  分極ヒステリシス
準シソーラス用語： 誘電ヒステリシス

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： Al2O3 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  強誘電性