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J-GLOBAL ID：201602211889108167   整理番号：16A1223532

高絶縁性トポロジカル絶縁体上に形成したPb薄膜のSTM/STS

著者 (7件)： 岩谷克也 (理研 CEMS) ,  松岡賢祐 (理研 CEMS) ,  名坂成昭 (東京工大 フロンティア創造共同研セ) ,  町田理 (理研 CEMS) ,  幸坂祐生 (理研 CEMS) ,  花栗哲郎 (理研 CEMS) ,  笹川崇男 (東京工大 フロンティア創造共同研セ)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 71  号： 2  ページ： ROMBUNNO.14aAM-5  発行年： 2016年09月23日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *絶縁材料 ,  *素子構造 ,  *超伝導体 ,  *鉛 ,  *走査型トンネル顕微鏡 ,  ビスマス化合物 ,  アンチモン化合物 ,  テルル化物 ,  硫化物 ,  Fermi準位 ,  Landau準位 ,  電子状態 ,  エネルギーギャップ ,  束縛状態 ,  超伝導薄膜 ,  *絶縁体 ,  *トポロジカル絶縁体 ,  *ヘテロ構造 ,  超伝導ギャップ
準シソーラス用語： *STM【顕微鏡】 ,  Majorana束縛状態

分類 (2件)： その他の超伝導体の物性  (BM04025Q) ,  Josephson接合・素子  (BM04043E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 絶縁性 ,  トポロジカル絶縁体 ,  Pb ,  薄膜 ,  STM ,  STS