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J-GLOBAL ID：201602212337141808   整理番号：16A0281175

周辺雰囲気ガス制御型プラズマジェット照射による溶液中活性酸素・窒素種生成

著者 (5件)： 内田儀一郎 (阪大 接合研) ,  中島厚 (阪大 接合研) ,  伊藤泰喜 (阪大 接合研) ,  竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (阪大 接合研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.19P-W611-10  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマジェット ,  表面改質 ,  プラズマ曝露 ,  *活性酸素 ,  窒素 ,  発光スペクトル ,  気体 ,  溶液 ,  *活性窒素
準シソーラス用語： プラズマ照射 ,  雰囲気ガス

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 周辺 ,  雰囲気ガス ,  制御型 ,  プラズマジェット ,  溶液 ,  活性酸素 ,  窒素