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J-GLOBAL ID：201602217017971510   整理番号：16A0284012

スパッタ堆積MoS₂薄膜のXPSと光学コントラスト法による層数識別

著者 (11件)： 石原聖也 (明治大) ,  日比野祐介 (明治大) ,  澤本直美 (明治大) ,  須田耕平 (明治大) ,  大橋匠 (東京工大) ,  松浦賢太郎 (東京工大) ,  町田英明 (気相成長) ,  石川真人 (気相成長) ,  須藤弘 (気相成長) ,  若林整 (東京工大) ,  小椋厚志 (明治大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.22A-S421-10  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *硫化モリブデン ,  *スパッタ蒸着 ,  化合物半導体 ,  *半導体薄膜 ,  X線光電子分光法 ,  コントラスト ,  *数 ,  *電子顕微鏡観察 ,  均一性 ,  膜厚
準シソーラス用語： 光学コントラスト ,  *層数

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： スパッタ堆積 ,  MoS2 ,  薄膜 ,  XPS ,  光学 ,  コントラスト ,  層 ,  識別