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J-GLOBAL ID：201602217598434324   整理番号：16A0090490

大気圧CVD法によって成長した酸化亜鉛薄膜の結晶学及び光学的特性への窒素添加効果

Effects of Nitrogen Doping on Structural and Optical Properties of ZnO Films Grown by Atmospheric-pressure CVD

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著者 (2件)： 寺迫智昭 (愛媛大 大学院理工学研究科) ,  矢木正和 (香川高専)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 115  号： 297(CPM2015 83-102)  ページ： 85-88  発行年： 2015年10月30日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 大気圧化学気相堆積(AP-CVD)法によってr面サファイア基板上に成長した窒素(N)添加ZnO薄膜の構造特性及び光学的特性が研究された。少量のNH₃添加が,薄膜の配向性や表面モフォロジーの改善および非発光中心の減少に有効であることが明らかになった。as-grown N添加薄膜に熱処理を施すことで~720nmにピークを持つ赤色(RB)発光が出現した。このRB発光に対するPL励起(PLE)スペクトルでは,460-650nmに深い準位の形成を示す励起帯が観察された。X線光電子分光スペクトル(XPS)によって,N添加によって導入された酸素(O)位置を置換するN原子アクセプタがH原子によって終端,もしくはH原子に関係するドナーやO位置を置換するN₂分子ダブルドナーによって補償されることが明らかになった。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  *化学蒸着 ,  スペクトル ,  光ルミネセンス ,  X線光電子分光法 ,  光音響分光法 ,  ドーピング ,  半導体薄膜 ,  窒素ドーピング ,  *ZnOフィルム ,  *APCVD
準シソーラス用語： *ZnO薄膜 ,  *大気圧化学蒸着 ,  PLスペクトル ,  XPS

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (8件)： 大気圧 ,  CVD法 ,  成長 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  結晶学 ,  光学的特性 ,  窒素 ,  添加効果