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J-GLOBAL ID：201602235009757275   整理番号：16A1190646

透明導電薄膜の近赤外線ナノ秒パルスレーザスクライビング

著者 (4件)： KIM Byunggi (東京工大 大学院) ,  飯田亮一 (東京工大 大学院) ,  DOAN Hong Duc (東京工大 大学院) ,  伏信一慶 (東京工大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 53rd  ページ： ROMBUNNO.C234  発行年： 2016年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 透明導電薄膜のパターニング手法として広く用いられる近赤外線ナノ秒パルスレーザスクライビングのメカニズムについて実験・理論的検討を行った。膜厚方向の吸収プロファイルはレーザ照射方向にほとんど影響されないが,照射方向による加工結果の差は顕著であることに注目した。その原因の解明のために,パルスエネルギー,照射方向をパラメータとした加工実験においてパルス時間プロファイルの計測,温度分布の計算を行なった。本講演では,その実験・計算結果を報告するとともに,新たな透明導電薄膜除去メカニズムについて論じる。(著者抄録)

シソーラス用語： *レーザ加工 ,  *罫書き ,  *太陽電池 ,  パルス ,  薄膜 ,  プラズマ ,  透過率 ,  ナノ秒パルス ,  *レーザースクライビング ,  有機太陽電池
準シソーラス用語： 有機薄膜型太陽電池

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 透明導電薄膜 ,  近赤外線 ,  ナノ秒パルスレーザ ,  スクライビング