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J-GLOBAL ID：201602266605173370   整理番号：16A0446296

レーザ照射による石英表面の官能基制御

著者 (3件)： 青野祐子 (東京工大) ,  平田敦 (東京工大) ,  戸倉和 (東京工大)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.J1130203  発行年： 2015年09月12日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： レーザ照射により石英表面の官能基を量的に制御することで,濡れ性の改質を行った。-CF₃基を付与した疎水性の表面にレーザを照射すると,そのエネルギにより脱離する-CF₃基の量が変化し,濡れ性が段階的に変わることを明らかにした。また,この改質前後において可視光透過特性や表面には変化が見られず,これらの改質が物理的な変化ではなく官能基の変化によって発生していると考えられる。石英基板上に局所的な親水性の改質部を設けたところ,純水が改質部を選択的に広がり,表面流路のように振る舞うことを確認した。(著者抄録)

シソーラス用語： *レーザ照射 ,  *石英 ,  基 ,  *濡れ ,  *疎水性 ,  *可視光 ,  光透過 ,  *改質 ,  *親水性 ,  *経路 ,  官能基 ,  表面濡れ性
準シソーラス用語： 濡れ性 ,  流路

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： レーザ照射 ,  石英 ,  官能基