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J-GLOBAL ID：201602282364570333   整理番号：16A1087329

フォトクロミックナフタセンキノンデンドリマー薄膜上での光誘起表面レリーフの成長

著者 (6件)： 甲斐秀平 (大分大 工) ,  植島智美 (大分大 工) ,  向井孝次 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院) ,  守山雅也 (大分大 工)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 65  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2M06  発行年： 2016年08月24日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フォトクロミズム ,  *デンドリマ ,  *表面構造 ,  高分子薄膜 ,  *物質移動 ,  温度依存性 ,  依存性 ,  誘導 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  光照射 ,  フォトマスク ,  *光異性化 ,  熱処理 ,  *光誘起 ,  *表面レリーフ ,  膜厚依存性 ,  *構造 ,  マスク

分類 (3件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (1件)： 5,12-ナフタセンキノン

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  光誘起 ,  表面レリーフ ,  成長