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J-GLOBAL ID：201602289323722598   整理番号：16A0942062

プラズマを重畳した反応性パルススパッタリングによる窒化物薄膜の低温形成

著者 (4件)： 竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  佐竹義旦 (阪大 接合研) ,  内田儀一郎 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (阪大 接合研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 77th  ページ： ROMBUNNO.15p-P6-4  発行年： 2016年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *反応性スパッタリング ,  *プラズマ処理 ,  *窒化物 ,  *薄膜 ,  窒化アルミニウム ,  比率 ,  *低温プロセス
準シソーラス用語： *窒化物薄膜 ,  デューティ比

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (8件)： プラズマ ,  重畳 ,  反応性 ,  パルス ,  スパッタリング ,  窒化物 ,  薄膜 ,  低温形成