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J-GLOBAL ID：201602293866373291   整理番号：16A1293080

ベッセルビームを用いたフッ素ドープ酸化スズ薄膜のナノ秒パルスレーザスクライビング

著者 (4件)： KIM Byunggi (東京工大) ,  飯田亮一 (東京工大) ,  DOAN Hong Duc (東京工大) ,  伏信一慶 (東京工大)
資料名： 日本機械学会熱工学コンファレンス講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会熱工学コンファレンス(CD-ROM))
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.A233  発行年： 2015年 
JST資料番号： L0417B  ISSN： 2424-290X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 光子ビーム ,  *酸化スズ ,  フッ素 ,  ドーピング ,  パルスレーザ ,  パルス放電 ,  ナノ秒 ,  *レーザ加工 ,  *罫書き ,  Besselビーム ,  ナノ秒パルス放電 ,  *レーザースクライビング ,  *FTO【酸化物】 ,  ビーム
準シソーラス用語： *フッ素ドープ酸化スズ

分類 (1件)： 特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： ベッセルビーム ,  フッ素ドープ酸化スズ ,  薄膜 ,  ナノ秒パルスレーザ ,  スクライビング