特許
J-GLOBAL ID：201603014996566848
表面処理方法および表面処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
中尾 俊輔
, 伊藤 高英
, 玉利 房枝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-271233
公開番号（公開出願番号）：特開2013-122876
特許番号：特許第5927644号
出願日： 2011年12月12日
公開日（公表日）： 2013年06月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 微粒子または糸状物質からなる被処理物の表面にプラズマを接触させてプラズマ処理を施す表面処理方法において、
処理容器の内部に対して、前記処理容器の内部の内壁に沿って回転軸の一方向に移動しながら渦を巻く旋回流と、前記旋回流の下流端から前記旋回流の中心を前記一方向と反対の他方向に流れる上昇気流とからなる前記プラズマの流れを形成するように前記プラズマを導入して前記処理容器の内部の所定領域を前記プラズマで満たし、
前記処理容器の外部において、前記処理容器の内部へ導入される前記プラズマの流れに対して前記被処理物を投入して、前記被処理物と前記プラズマとの混合体とすることにより前記被処理物の分散を行うとともに、前記被処理物の表面に前記プラズマを接触させてプラズマ処理を進行させながら前記プラズマの流れによって前記被処理物を前記処理容器の内部に搬入し、
前記処理容器の内部において、搬入された前記混合体を前記旋回流によって攪拌しながら前記旋回流の下流端に達するまで前記プラズマ処理を進行させるとともに、前記旋回流の遠心力によって前記混合体を気体成分と固体成分とに分離し、
前記旋回流の下流端において、前記気体成分を前記上昇気流によって前記回転軸の他方向から前記処理容器の外部へ排気するとともに、前記固体成分を前記旋回流の下流端から前記処理容器の外部へ搬出することを特徴とする表面処理方法。
IPC (3件)：
H05H 1/24 ( 200 6.01)
, C23C 16/50 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
H05H 1/24
, C23C 16/50
, B01J 19/08 K
