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J-GLOBAL ID：201702238655351155   整理番号：17A0011862

溶液作製した透明ZnO薄膜の紫外線照射による低抵抗化と応用

著者 (4件)： 米元謙太朗 (東京工大) ,  岸哲生 (東京工大) ,  矢野哲司 (東京工大) ,  松下伸広 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 29th  ページ： ROMBUNNO.2Q02  発行年： 2016年08月29日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化合物半導体 ,  酸化物 ,  *透明導電膜 ,  *酸化亜鉛 ,  溶液成長 ,  *紫外線照射 ,  微細構造 ,  結晶構造 ,  光学的性質 ,  透過率 ,  *電気抵抗率 ,  透明導電性酸化物 ,  光透過率
準シソーラス用語： 化学溶液堆積法 ,  微細組織

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 溶液 ,  作製 ,  ZnO薄膜 ,  紫外線照射 ,  低抵抗 ,  応用