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J-GLOBAL ID：201702244694114938   整理番号：17A1139050

超軽量X線光学系の表面粗さ改善に向けた長時間アニール

著者 (13件)： 伊師大貴 (首都大 理工) ,  江副祐一郎 (首都大 理工) ,  石川久美 (宇宙科研) ,  沼澤正樹 (首都大 理工) ,  武内数馬 (首都大 理工) ,  寺田優 (首都大 理工) ,  藤谷麻衣子 (首都大 理工) ,  糸山隆仁 (首都大 理工) ,  大坪亮太 (首都大 理工) ,  福島碧斗 (首都大 理工) ,  大橋隆哉 (首都大 理工) ,  金森義明 (東北大 工) ,  満田和久 (宇宙科研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.5p-S44-8  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 軽量化 ,  *光学系 ,  *表面粗さ ,  改良 ,  継続時間 ,  *焼なまし ,  イオンエッチング ,  ウエハ【IC】 ,  穴 ,  側壁 ,  反射鏡 ,  塑性変形 ,  高温 ,  化学蒸着 ,  イリジウム ,  白金 ,  結像 ,  分解能 ,  形態 ,  X線散乱 ,  時間依存性 ,  *X線光学系 ,  表面形状 ,  シリコンウエハ ,  X線ミラー ,  改変
準シソーラス用語： 改善 ,  軽量 ,  長時間 ,  Si基板 ,  X線反射鏡 ,  原子層堆積 ,  角度分解能

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 軽量 ,  X線光学系 ,  表面粗さ ,  アニール