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J-GLOBAL ID：201702245866811358   整理番号：17A1374741

液中プラズマCVD法による金属基板上へのダイヤモンド形成

Synthesis of diamond by in-liquid plasma CVD onto metal substrates

著者 (5件)： TOYOTA Hiromichi (Ehime Univ.) ,  GAUTAMA Pria (Ehime Univ.) ,  IWAMOTO Yukiharu (Ehime Univ.) ,  ZHU Xia (Ehime Univ.) ,  NOMURA Shinfuku (Ehime Univ.)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.G01  発行年： 2017年09月05日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： プラズマ ,  *プラズマCVD ,  基板 ,  マイクロ波 ,  電子顕微鏡観察 ,  ケイ素 ,  銅 ,  鉄 ,  *薄膜 ,  *薄膜成長 ,  液中プラズマ ,  金属基板 ,  *ダイヤモンド膜 ,  走査電子顕微鏡法
準シソーラス用語： *ダイヤモンド薄膜 ,  走査電子顕微鏡観察

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (8件)：

• M. N. R. Ashfold, P. W. May, C. A. Rego, N. M. Everitt. Thin film diamond by chemical vapour deposition methods. Chemical Society Reviews. 1994;23:21-30.
• H. Toyota, S. Nomura, Y. Takahashi, S. Mukasa. Submerged synthesis of diamond in liquid alcohol plasma. Diamond Related Materials. 2008;17(11):1902-4.
• Y. Takahashi, H. Toyota, S. Nomura, S. Mukasa, T. Inoue. A comparison of diamond growth rate using in-liquid and conventional plasma chemical vapor deposition methods. J. Appl. Phys. 2009;105(11):113306.
• H. Toyota, S. Nomura, S. Mukasa, Y. Takahashi, S. Okuda. Diamond synthesis by plasma chemical vapor deposition in liquid and gas. Diamond Related Materials. 2010;19(5-6):418-22.
• H. Toyota, S. Nomura, S. Mukasa, H. Yamashita, T. Shimo, S. Okuda. A consideration of ternary C-H-O diagram for diamond deposition using microwave in-liquid and gas phase plasma. Diamond Related Materials. 2011;20(8):1255-58.

タイトルに関連する用語 (4件)： 液中プラズマ ,  CVD法 ,  金属基板 ,  ダイヤモンド