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J-GLOBAL ID：201702247120152916   整理番号：17A1141116

Q値100万を超えるシリコンナノ共振器へのナノ材料付加-前処理プロセスの影響評価-

著者 (9件)： 伊藤隆浩 (大阪府大 大学院) ,  芦田紘平 (大阪府大 大学院) ,  木下圭 (東大 生産技研) ,  守谷頼 (東大 生産技研) ,  町田友樹 (東大 生産技研) ,  町田友樹 (JST-CREST) ,  岡野誠 (産業技術総合研) ,  山田浩治 (産業技術総合研) ,  高橋和 (大阪府大 大学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.7p-PA1-10  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *微小共振器 ,  *ケイ素 ,  ナノ材料 ,  前処理 ,  Q値 ,  付加化合物 ,  *ナノ構造 ,  酸化膜 ,  表面処理 ,  自己組織化 ,  表面酸化 ,  化成皮膜

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (6件)： Q値 ,  シリコン ,  ナノ共振器 ,  ナノ材料 ,  プロセス ,  影響評価