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J-GLOBAL ID：201702271340174423   整理番号：17A0783397

気液共沈プロセスによるイットリウムドープ酸化セリウム膜の作製

著者 (5件)： 大村葵 (東京工大) ,  久保田雄太 (東京工大) ,  岸哲生 (東京工大) ,  矢野哲司 (東京工大) ,  松下伸広 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.3F09  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 共沈 ,  *酸化セリウム ,  *固体酸化物燃料電池 ,  固体電解質 ,  *薄膜 ,  ドーピング ,  イットリウム化合物 ,  固液界面 ,  酸化物薄膜 ,  窒素複素環化合物 ,  架橋化合物

分類 (1件)： 燃料電池  (YB04040V)

物質索引 (1件)： ヘキサメチレンテトラミン

タイトルに関連する用語 (7件)： 気 ,  共沈 ,  プロセス ,  イットリウム ,  ドープ ,  酸化セリウム ,  作製