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J-GLOBAL ID：201702285651520339   整理番号：17A0894253

エピタキシャルYbFe₂O₄薄膜の配向構造に及ぼす下地層の影響

著者 (6件)： 河井一成 (岡山大) ,  中畑大輝 (岡山大) ,  中西真 (岡山大) ,  狩野旬 (岡山大) ,  池田直 (岡山大) ,  藤井達生 (岡山大)
資料名： 粉体粉末冶金協会講演概要集  (粉体粉末冶金協会大会講演概要集)
巻： 2017  号： 春季  ページ： 191  発行年： 2017年05月31日 
JST資料番号： F0815B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 強磁性 ,  強誘電性 ,  *鉄酸塩 ,  イッテルビウム化合物 ,  希土類元素化合物 ,  薄膜 ,  反応性スパッタリング ,  *微細構造 ,  結晶方位 ,  結晶構造 ,  下層 ,  格子定数 ,  基板 ,  *薄膜成長 ,  *エピタキシャル膜 ,  下地層 ,  サファイア基板 ,  マルチフェロイック材料
準シソーラス用語： マルチフェロイック化合物 ,  希土類化合物 ,  微細組織 ,  結晶配向

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： エピタキシャル ,  薄膜 ,  下地層