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J-GLOBAL ID：201702298960897513   整理番号：17A1139051

原子層堆積法によるシリコンX線微細孔工学系のPt膜付け加工

著者 (13件)： 武内数馬 (首都大) ,  江副祐一郎 (首都大) ,  石川久美 (宇宙科研) ,  沼澤正樹 (首都大) ,  寺田優 (首都大) ,  伊師大貴 (首都大) ,  藤谷麻衣子 (首都大) ,  糸山隆仁 (首都大) ,  大坪亮太 (首都大) ,  福島碧都 (首都大) ,  SOWA M.J. (Ultratech) ,  大橋隆哉 (首都大) ,  満田和久 (宇宙科研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.5p-S44-9  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  ケイ素 ,  技術 ,  *細孔 ,  光学系 ,  *白金 ,  *金属薄膜 ,  加工 ,  反射率 ,  ウエハ【IC】 ,  *ドライエッチング ,  円弧 ,  平滑化 ,  焼なまし ,  アルミナ ,  ビームライン ,  シミュレーション ,  表面粗さ ,  X線望遠鏡 ,  核形成 ,  反射鏡 ,  X線反射 ,  X線反射率 ,  X線ミラー ,  X線光学系 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  X線技術 ,  *微細穴 ,  Si基板

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子層堆積法 ,  シリコン ,  X線 ,  微細孔 ,  工学 ,  Pt