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J-GLOBAL ID：201802214080003786   整理番号：18A1763133

主鎖切断型ハイパーブランチポリアセタールを用いた高解像性レジスト材料の開発

著者 (2件)： 塩月康平 (関西大 大学院) ,  工藤宏人 (関西大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 2  ページ： ROMBUNNO.1W13  発行年： 2018年08月29日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *超分枝重合体 ,  フォトレジスト ,  汚染物質 ,  気体 ,  *ポリアセタール ,  *レジスト ,  共重合体 ,  スピンコーティング ,  高分子薄膜 ,  極端紫外線 ,  露光 ,  フォトリソグラフィー ,  EUVレジスト ,  アウトガス
準シソーラス用語： *ポジ型レジスト ,  EUVリソグラフィー

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (2件)： 4-ビニルオキシシクロヘキシルビニルエーテル ,  3,6-ビス(ビニルオキシ)ヘキサヒドロフロ[3,2-b]フラン

タイトルに関連する用語 (4件)： 主鎖切断 ,  高解像性 ,  レジスト材料 ,  開発