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J-GLOBAL ID：201802263161169795   整理番号：18A1763134

極端紫外線用含テルル分子レジスト材料の開発

著者 (2件)： 岩本芳明 (関西大 大学院) ,  工藤宏人 (関西大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 2  ページ： ROMBUNNO.1W14  発行年： 2018年08月29日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： フォトレジスト ,  フォトリソグラフィー ,  極端紫外線 ,  *レジスト ,  *有機テルル化合物 ,  シクロアルカン ,  架橋化合物 ,  膜厚 ,  耐熱性 ,  製膜 ,  EUVレジスト ,  *分子レジスト ,  アダマンタン誘導体
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (4件)： ビス(4-ヒドロキシフェニル)ジクロロテルル(IV) ,  ビス(6-ヒドロキシ-3-ビフェニリル)ジクロロテルル(IV) ,  (1r,3r,5r,7r)-2-メチルアダマンタン-2-イル2-[(5-{[6-(2-オキソ-2-{[(1r,3r,5r,7r)-2-メチルアダマンタン-2-イル]オキシ}エトキシ)-[1,1’-ビフェニル]-3-イル]テラニル}-[1,1’-ビフェニル]-2-イル)オキシ]アセタート ,  (1r,3r,5r,7r)-2-メチルアダマンタン-2-イル2-[(5-{[6-(2-オキソ-2-{[(1r,3r,5r,7r)-2-メチルアダマンタン-2-イル]オキシ}エトキシ)-[1,1’-ビフェニル]-3-イル]クロロ-λ⁴-テラニル}-[1,1’-ビフェニル]-2-イル)オキシ]アセタート

タイトルに関連する用語 (4件)： 極端紫外線 ,  テルル ,  分子レジスト ,  開発