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J-GLOBAL ID：201802272246426578   整理番号：18A2091255

液晶性ポリイミド前駆体薄膜のpMAIRS法およびGI-WAXD法に基づく高次構造解析

著者 (3件)： 石毛亮平 (東工大 物質理工) ,  田中和幸 (東工大 物質理工) ,  安藤慎治 (東工大 物質理工)
資料名： 繊維学会予稿集  (繊維学会予稿集秋季研究発表会)
巻： 73  号： 2  ページ： 5  発行年： 2018年11月01日 
JST資料番号： L1827A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： X線回折 ,  スペクトロスコピー ,  *PMDAポリイミド ,  ポリアミド酸 ,  高次構造 ,  *高分子薄膜 ,  度 ,  高分子液晶 ,  配向 ,  前駆体 ,  すれすれ入射X線回折 ,  pMAIRS法 ,  配向度 ,  広角X線回折
準シソーラス用語： WAXD【回折】

分類 (2件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  液晶一般  (BK03010L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 液晶 ,  ポリイミド前駆体 ,  薄膜 ,  pMAIRS法 ,  GI ,  WAXD ,  構造解析