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J-GLOBAL ID：201802288199978985   整理番号：18A1699483

反応性プラズマ蒸着法によるITO/a-Si界面化学結合状態の硬X線光電子分光法による評価

著者 (9件)： 西原達平 (明治大 理工) ,  小島拓人 (明治大 理工) ,  金井皓輝 (明治大 理工) ,  松村英樹 (北陸先端科学技術大学院大) ,  神岡武文 (明治大 理工) ,  大下祥雄 (豊田工大) ,  安野聡 (高輝度光科学研究セ) ,  廣沢一郎 (高輝度光科学研究セ) ,  小椋厚志 (明治大 理工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 79th  ページ： ROMBUNNO.20p-133-10  発行年： 2018年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化インジウムスズ ,  *アモルファスシリコン ,  *X線光電子分光法 ,  硬X線 ,  化学結合 ,  プラズマCVD ,  太陽電池 ,  *透明電極 ,  混合層 ,  シリコン太陽電池 ,  ヘテロ接合太陽電池 ,  *界面化学結合 ,  反応性プラズマ蒸着
準シソーラス用語： ITO

分類 (1件)： 半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 反応性プラズマ蒸着 ,  ITO ,  Si ,  界面化学結合 ,  硬X線光電子分光 ,  評価