ナノエンボス構造体、ナノエンボス構造体の製造方法、ナノエンボス構造体製造用の重合性材料

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-169454
公開番号（公開出願番号）：特開2018-036496
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
要約：

【課題】煩雑なエッチング工程などを施す必要なく、微細な凹凸構造からなるナノエンボス構造を形成することができ、ナノエンボス構造体を簡便に効率よく製造することを可能とするナノエンボス構造体の製造方法を提供すること。【解決手段】4〜8官能のアクリル系モノマーから選択される少なくとも1種の多官能アクリル系モノマー(A)、及び、炭素-炭素二重結合を有する官能基の数が1〜3のモノマーから選択される少なくとも1種のモノマー(B)のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記多官能アクリル系モノマー(A)の含有量が前記多官能アクリル系モノマー(A)及び前記モノマー(B)の総量に対して70モル%以上である重合性材料を調製する工程、前記重合性材料からなる膜を形成する工程、及び、前記膜に酸素含有雰囲気下において光を照射して光重合することにより、該膜の酸素と接する表面にナノエンボス構造を形成する工程を有することを特徴とするナノエンボス構造体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

4〜8官能のアクリル系モノマーから選択される少なくとも1種の多官能アクリル系モノマー(A)、及び、炭素-炭素二重結合を有する官能基の数が1〜3のモノマーから選択される少なくとも1種のモノマー(B)のうちの少なくとも1種を含有し、かつ、前記多官能アクリル系モノマー(A)の含有量が前記多官能アクリル系モノマー(A)及び前記モノマー(B)の総量に対して70モル%以上である重合性材料を調製する工程、前記重合性材料からなる膜を形成する工程、及び、前記膜に酸素含有雰囲気下において光を照射して光重合することにより、該膜の酸素と接する表面にナノエンボス構造を形成する工程を有することを特徴とするナノエンボス構造体の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 1/118 , C08F 2/46 , C08F 220/28

FI (3件)：

G02B1/118 , C08F2/46 , C08F220/28

Fターム (44件)：

2H149AB26 , 2H149BA24 , 2H149FA06W , 2H149FA08W , 2H149FA58W , 2H149FD25 , 2H149FD44 , 2H149FD47 , 2K009AA01 , 2K009BB02 , 2K009CC23 , 2K009CC24 , 2K009DD02 , 2K009DD05 , 2K009DD06 , 4F071AA22X , 4F071AA33X , 4F071AC07 , 4F071AC15 , 4F071AE02 , 4F071AF29 , 4F071AH12 , 4F071AH19 , 4F071BA02 , 4F071BB02 , 4F071BB12 , 4F071BC01 , 4F071BC16 , 4J011AA05 , 4J011AC04 , 4J011QA22 , 4J011QA23 , 4J011QA24 , 4J011SA51 , 4J011UA01 , 4J011VA01 , 4J011WA01 , 4J011XA02 , 4J100AB02Q , 4J100AL63P , 4J100CA04 , 4J100CA23 , 4J100DA61 , 4J100JA32

引用特許：

審査官引用 (1件)

積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-085526 出願人：三菱レイヨン株式会社

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