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J-GLOBAL ID：201902213590558426   整理番号：19A1376371

逆格子空間マッピングを用いたGe_1-xSn_xメサ構造における歪緩和評価

著者 (6件)： 高橋祐樹 (明治大 理工) ,  横川凌 (明治大 理工) ,  横川凌 (日本学術振興会) ,  廣沢一郎 (高輝度光科学研究セ) ,  須田耕平 (明治大 理工) ,  小椋厚志 (明治大 理工)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 66th  ページ： ROMBUNNO.12a-M113-2  発行年： 2019年02月25日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 背景と目的: Ge1-xSnxはSiやGeと比較し、正孔・電子移動度共に高い値を有しており、高移動度の次世代トランジスタ材料として注目されている。また、Ge1-xSnxにはSiと同様に歪技術が有効であると考えられており、更なる電子・正孔移動...【本文一部表示】

シソーラス用語： *空間 ,  *ゲルマニウム ,  スズ ,  ドーピング ,  メサ構造 ,  *緩和現象 ,  *X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  *逆格子空間
準シソーラス用語： *歪緩和 ,  XRD分析 ,  SEM【顕微鏡】

分類 (1件)： 半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： 逆格子空間 ,  マッピング ,  メサ構造 ,  歪緩和 ,  評価