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J-GLOBAL ID：201902234593352825   整理番号：19A0607128

放射光X線を活用した高分子材料の延伸過程その場構造解析

著者 (4件)： 石毛亮平 (東京工大) ,  田中和幸 (東京工大) ,  藤原瑛右 (東京工大) ,  安藤慎治 (東京工大)
資料名： KEK Proceedings (Web)  (KEK Proceedings (Web))
号： 2018-10  ページ： 26-28 (WEB ONLY)  発行年： 2019年02月 
JST資料番号： U0585A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 材料 ,  X線構造解析 ,  *X線回折 ,  *小角X線散乱 ,  *延伸 ,  *サーモトロピック液晶 ,  *ポリイミド ,  スメクチック相 ,  熱可塑性ゴム ,  応力歪曲線 ,  X線結晶構造解析 ,  *一軸延伸 ,  高分子材料 ,  *放射光X線回折 ,  曲線 ,  線
準シソーラス用語： *SAXS【散乱】 ,  TPE ,  スメチック液晶

分類 (2件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  その他の液晶  (BK03030H)

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  X線 ,  活用 ,  高分子材料 ,  延伸 ,  過程 ,  構造解析