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J-GLOBAL ID：201902253928961897   整理番号：19A2598053

実験室系硬X線光電子分光法による埋もれた界面の化学結合状態評価

著者 (8件)： 西原達平 (明治大 理工) ,  金井皓輝 (明治大 理工) ,  横川凌 (明治大 理工) ,  横川凌 (日本学術振興会) ,  廣沢一郎 (高輝度光科学研究セ) ,  安野聡 (高輝度光科学研究セ) ,  大川登志郎 (シエンタオミクロン) ,  小椋厚志 (明治大 理工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 80th  ページ： ROMBUNNO.18a-E303-11  発行年： 2019年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： [背景]エネルギー3 keV以上のX線源を用いる、硬X線光電子分光法(HArd X-ray PhotoElectron Spectroscopy)が、近年注目されている[1]。X線のエネルギーは、検出深さに影響を与え、HAXPESは通常のX...【本文一部表示】

シソーラス用語： *X線光電子分光法 ,  *硬X線 ,  *界面 ,  化学結合 ,  *ケイ素 ,  熱酸化 ,  *二酸化ケイ素 ,  シンクロトロン放射 ,  *比較 ,  *硬X線光電子分光 ,  界面化学結合
準シソーラス用語： *HAXPES

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 実験室系 ,  硬X線光電子分光 ,  界面 ,  化学結合 ,  状態評価