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J-GLOBAL ID：201902270317078300   整理番号：19A2396903

物理気相成長法を用いたa-BCN膜の作製と評価

著者 (7件)： 竹内亮大郎 (東京工大) ,  岩本喜直 (東京工大) ,  河越雅雄 (東京工大) ,  谷口紘章 (東京工大) ,  平田祐樹 (東京工大) ,  赤坂大樹 (東京工大) ,  大竹尚登 (東京工大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2019  号： 春季(Web)  ページ： 151-152(J-STAGE)  発行年： 2019年09月04日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： a-BCN膜は,DLC膜の高硬さ・低摩擦係数といった性質と,a-BN膜の高耐熱性・鉄に対して不活性という性質を併せ持ち,機械部品の摺動面への被覆剤としての適用が期待されている.しかし,膜の作製条件とその構造,機械的特性との関係は未解明である.本研究では,物理気相成長法である真空アーク蒸着法とマグネトロンスパッタリング法を重畳した新たなa-BCN膜の作製手法を開発し,膜の構造と機械的特性を評価した.(著者抄録)

シソーラス用語： *膜 ,  *非晶質 ,  ホウ素化合物 ,  炭化物 ,  窒化物 ,  マグネトロンスパッタリング ,  イオンめっき ,  アーク放電 ,  イオンビーム蒸着 ,  *物理蒸着 ,  膜構造 ,  *製膜 ,  *機械的性質 ,  硬度 ,  Young率 ,  摩擦係数 ,  耐熱性 ,  炭窒化ホウ素 ,  真空アーク蒸着 ,  *非晶質膜 ,  *性質
準シソーラス用語： *アモルファス膜 ,  硬さ

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (3件)：

• 三宅正二郎, 精密工学会誌, 66, 4 (2000), 539-543.
• M. Kuhr, et al., Diamond and Related Materials, 4, 4 (1995), 375-380.
• V. Linss, et al., Thin Solid Films, 467, 1, 2 (2004), 76-87.

タイトルに関連する用語 (3件)： 物理気相成長法 ,  作製 ,  評価