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J-GLOBAL ID：201902270698708892   整理番号：19A1301389

高圧安定四重ペロブスカイトの薄膜化による磁気異方性制御とスピントロニクス応用への展開

Manipulation of Magnetic Anisotropy in High-Pressure-Phase Quadruple Perovskite Thin Film Toward for Spintronic Application

著者 (1件)： 重松圭 (東京工大 科学技術創成研究院 フロンティア材料研)
資料名： 豊田研究報告  (Reports of Toyota Physical and Chemical Research Institute)
号： 72  ページ： 184-185  発行年： 2019年05月23日 
JST資料番号： G0667A  ISSN： 0372-039X  CODEN： TOKHA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 四重ペロブスカイトには,種々の物理的性質のために,かなりの関心が寄せられている。大部分の四重ペロブスカイトは,それらの緻密な結晶構造を安定化するために,数GPaの高圧を必要とする。本研究では,そのような準安定四重ペロブスカイトCeCu₃Mn₄O₁₂の薄膜成長を研究した。フェリ磁性CeCu₃Mn₄O₁₂薄膜の磁気異方性は,エピタキシャル歪に敏感に影響されることが分かった。加えて,YCaAlO₄バッファ層から誘導された圧縮歪を誘発することによって,望ましい垂直磁気異方性を有するCeCu₃Mn₄O₁₂膜を首尾よく実現した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *スピントロニクス ,  *ペロブスカイト型結晶 ,  酸化物 ,  高圧 ,  安定化 ,  エピタクシー ,  *垂直磁気異方性 ,  バッファ層 ,  フェリ磁性 ,  物理的性質 ,  結晶構造 ,  薄膜成長 ,  圧縮歪 ,  *酸化物薄膜 ,  薄膜技術
準シソーラス用語： 薄膜化技術

分類 (2件)： 金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (1件)：

• A. A. Belik, Dalton Transactions 47, 3209 (2018).

タイトルに関連する用語 (7件)： 高圧 ,  ペロブスカイト ,  薄膜化 ,  磁気異方性 ,  スピントロニクス ,  応用 ,  展開