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J-GLOBAL ID：201902286793629101   整理番号：19A0157282

温和な溶液プロセスによるナノクラスター担持光触媒の開発

著者 (4件)： 宮内雅浩 (東京工大) ,  YIN Ge (東京工大) ,  庄司州作 (東京工大) ,  山口晃 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 31st  ページ： ROMBUNNO.2Q17  発行年： 2018年08月27日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ナノクラスタ ,  *光触媒 ,  担持触媒 ,  酸化銅 ,  公害対策 ,  浄化 ,  電荷移動遷移 ,  酸化チタン ,  還元 ,  ナノ粒子 ,  助触媒 ,  金属間化合物 ,  インク ,  銅合金 ,  亜鉛合金 ,  カルシウム化合物 ,  鉄化合物 ,  抗細菌作用 ,  抗ウイルス作用 ,  環境浄化 ,  二酸化炭素還元 ,  *酸化チタン光触媒

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 溶液 ,  プロセス ,  ナノクラスター ,  担持 ,  光触媒 ,  開発