特許
J-GLOBAL ID：201903016336600495
骨成長の促進特性を有する生体埋植材及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
牛木 護
, 高橋 知之
, 田中 淳二
, 守屋 嘉高
, 加藤 裕介
, 齋藤 麻美
, 中村 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-096756
公開番号（公開出願番号）：特開2019-201688
出願日： 2018年05月21日
公開日（公表日）： 2019年11月28日
要約：
【課題】 生体に埋植後、細胞増殖性及びオッセオインテグレーションが向上した生体埋植材を安定して提供するための製造方法、及び、該生体埋植材を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明者らは、鋭意研究し、チタン又はチタン合金の表面にナノメートルオーターの微細構造を精密に形成する方法を確立し、該微細構造を有する生体埋植材を製造することに成功した。その結果、体液流によって細胞が流されることなく生体埋植材表面で、再現性よく、細胞増殖性と早期のオッセオインテグレーション成立をもたらすことが可能であることを見出し、本発明を完成させた。また、前記微細構造の凹面を粗面とすることで、さらなる細胞増殖性と早期オッセオインテグレーション成立をもたらすことを見出した。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基材の外表面に金属からなる被覆層を有する生体埋植材の製造方法であって、
前記被覆層は、ナノメートルオーダーの周期的微細構造パターンを有し、
a. 基板上にイオンビームスパッタ法により基材層を成膜する工程、
b. 前記基材層上にエッチングマスクとして、紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線硬化性樹脂層を形成する工程、
c. 紫外線ナノインプリト(UV-NIL)法により前記紫外線硬化性樹脂層に、レジストパターンを形成する工程、
d. 反応性イオンエッチング(RIE)法により前記レジストパターンに基づいたパターンを有する周期的微細構造パターンを前記基材層に形成する工程、
e. アッシングによりレジストパターンを除去する工程、及び、
f. 前記周期的微細構造パターンが形成された基材層上に、金属を含む被覆層を成膜する工程、
を含むことを特徴とする、製造方法。
IPC (4件)：
A61C 8/00
, A61F 2/30
, A61F 2/44
, A61B 17/58
A61C8/00 Z
, A61F2/30
, A61F2/44
, A61B17/58
4C097AA03
, 4C097AA10
, 4C097BB01
, 4C097CC03
, 4C097DD06
, 4C097DD10
, 4C097MM01
, 4C159AA26
, 4C159AA27
, 4C159AA29
, 4C159AA30
, 4C160LL42
