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J-GLOBAL ID：202002222203292799   整理番号：20A0254492

X線散乱の二次元相関法による液晶性ブロック共重合体の層構造解析

著者 (4件)： 古賀舞都 (産業技術総合研) ,  戸木田雅利 (東京工大) ,  水門潤治 (産業技術総合研) ,  新澤英之 (産業技術総合研)
資料名： 高分子分析討論会講演要旨集  (Symposium on Polymer Analysis in Japan)
巻： 24th  ページ： 71-72  発行年： 2019年10月24日 
JST資料番号： L4036A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】小角X線散乱(SAXS)法は、X線の散乱角に応じた数~数十ナノメートルの空間スケールにおける材料の構造情報を得ることができる手法である。高輝度の放射光X線と二次元検出器を利用すれば、外部刺激に応じた材料中の異方的な構造変化を追跡する...【本文一部表示】

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *高分子液晶 ,  X線散乱 ,  相関 ,  *分子構造 ,  *液晶性ブロック共重合体
準シソーラス用語： 相関法

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (5件)： X線散乱 ,  相関法 ,  液晶性ブロック共重合体 ,  層構造 ,  解析