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J-GLOBAL ID：202002231792400100   整理番号：20A2238385

中性粒子ビームによるニオブ加工特性

Niobium Etching Characteristics by Neutral Beam

著者 (9件)： 紺野太壱 (東北大 流体科研) ,  大堀大介 (東北大 流体科研) ,  日高睦夫 (産業技術総合研) ,  遠藤和彦 (産業技術総合研) ,  向井寛人 (東京理大) ,  TSAI J.S. (東京理大) ,  寒川誠二 (東北大 流体科研) ,  寒川誠二 (東北大 AIMR) ,  寒川誠二 (産業技術総合研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.14a-B408-4  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】 AI・IoT社会の発展により膨大なデータを解析し、高速に最適解を得ることが求められている。経路最適化を始めとする総当たり計算に対して、量子コンピュータを用いることで高速化できることが分かっている[1]。量子ビットを構成する超伝導材...【本文一部表示】

シソーラス用語： 界面 ,  酸化 ,  プラズマ ,  ケイ素 ,  *ニオブ ,  酸化物 ,  酸化膜 ,  接地 ,  加工条件 ,  スパッタ蒸着 ,  超伝導体 ,  Josephson接合 ,  イオンエッチング ,  絶縁体 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： トンネル障壁 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： Josephson接合・素子  (BM04043E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： 中性粒子ビーム ,  ニオブ ,  加工特性