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J-GLOBAL ID：202002233012248599   整理番号：20A0411117

芳香族ポリイミド膜の応力・歪み・放射光X線散乱同時その場測定に基づく延伸加熱イミド化過程における高次構造形成機構の解明

著者 (6件)： 石毛亮平 (東京工大) ,  藤原瑛右 (東京工大) ,  柳瀬圭太 (東京工大) ,  原昇平 (東京工大) ,  武藤江一朗 (東京工大) ,  安藤慎治 (東京工大)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2019-7  ページ： ROMBUNNO.251 (WEB ONLY)  発行年： 2019年11月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (11件)： 芳香族 ,  ポリイミド膜 ,  応力 ,  歪み ,  放射光 ,  X線散乱 ,  その場測定 ,  延伸 ,  イミド化 ,  過程 ,  構造形成