文献

J-GLOBAL ID：202002236069168745   整理番号：20A2237172

逆格子空間マッピングによるGe_1-XSn_Xメサ構造における原子間隔分布の検討

Investigation of Distributions of Interatomic distances in Ge_1-xSn_x Mesa Structures by Reciprocal Space Mapping

著者 (7件)： 廣沢一郎 (高輝度光科学研究セ) ,  高橋祐樹 (明治大 理工) ,  吉岡和俊 (明治大 理工) ,  横川凌 (明治大 理工) ,  横川凌 (日本学術振興会) ,  須田耕平 (明治大 理工) ,  小椋厚志 (明治大 理工)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.12p-D519-2  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： [はじめに]我々はGe基板上に成膜したGe1-xSnx膜に微細加工を施すことにより、異方的な形態を反映して面内方向の格子定数も異方的であることを報告してきた。更に今回報告するように、格子定数に加えて熱膨張係数も異方性を有することが明らかにな...【本文一部表示】

シソーラス用語： 回折 ,  界面 ,  格子定数 ,  薄膜 ,  核間距離 ,  非対称性 ,  温度変動 ,  *メサ構造 ,  微細加工 ,  MOCVD ,  *逆格子 ,  薄膜形成 ,  散乱強度 ,  *逆格子空間
準シソーラス用語： 歪緩和 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： 逆格子空間 ,  マッピング ,  メサ構造 ,  原子 ,  分布