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J-GLOBAL ID：202002253113735948   整理番号：20A1771065

放射光X線散乱法に基づくポリイミド膜の加熱・延伸製膜過程における秩序化機構の解明

Orientation Mechanism of Aromatic Polyimide induced during Heating from Precursor Poly(amic acid) under Uniaxial Stress revealed by in-situ Synchrotron X-ray Diffraction Method

著者 (4件)： 石毛亮平 (東京工大) ,  原昇平 (東京工大) ,  武藤江一朗 (東京工大) ,  安藤慎治 (東京工大)
資料名： 繊維学会予稿集(CD-ROM)  (繊維学会予稿集秋季研究発表会(CD-ROM))
巻： 75  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2D13  発行年： 2020年06月03日 
JST資料番号： L1827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】全芳香族ポリイミド(PI)は優れた耐熱性,耐薬品性,絶縁性,高い機械強度を具備し,電子回路絶縁層や次世代のフレキシブル表示素子の基板等に欠かせない産業上極めて重要な高分子材料であり,その物性は分子鎖の配向に強く依存する.PIは前駆体...【本文一部表示】

シソーラス用語： フレキシブル基板 ,  ポリイミド ,  前駆体 ,  *ポリアミド酸 ,  流延成形 ,  高分子膜 ,  状態 ,  昇温 ,  *イミド化 ,  *分子配向 ,  ネマチック相 ,  スメクチック相 ,  *逐次相転移 ,  *結晶化 ,  斜方晶系 ,  その場観察 ,  放射光施設 ,  X線回折 ,  応力状態 ,  広角X線回折
準シソーラス用語： *ポリアミック酸 ,  重合体フィルム ,  *全芳香族ポリイミド ,  *張力付与状態 ,  直方晶系

分類 (4件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  ネマチック相  (BK03020W) ,  重縮合  (CG04050Z) ,  その他の高分子材料  (YH07150C)

物質索引 (2件)： ピロメリット酸ジイミド ,  2,2′-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  X線散乱 ,  ポリイミド膜 ,  延伸 ,  製膜 ,  過程 ,  秩序化