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J-GLOBAL ID：202002254607069090   整理番号：20A0505997

スパッタ法によるYbFe₂O₄/Fe₃O₄多層膜作製と配向制御

著者 (5件)： 西村和泰 (岡山大 工) ,  中西真 (岡山大 工) ,  狩野旬 (岡山大 工) ,  藤井達生 (岡山大 工) ,  池田直 (岡山大 理)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2019  ページ： ROMBUNNO.2B24  発行年： 2019年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： α-Al2O3(001)上のYbFe2O4/Fe3O4多層膜を反応性スパッタリング...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  反応性スパッタリング ,  *多層膜 ,  鉄酸塩 ,  イッテルビウム化合物 ,  酸化鉄 ,  エピタクシー ,  結晶方位 ,  結晶構造 ,  転移温度 ,  *配向制御 ,  磁気転移温度
準シソーラス用語： エピタキシャル成長 ,  結晶配向 ,  結晶方位関係

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタ法 ,  多層膜 ,  作製 ,  配向制御